普泰克制冷設(shè)備
專注于半導(dǎo)體行業(yè)溫控
服務(wù)熱線：15214387784
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產(chǎn)品中心半導(dǎo)體高低溫測試機(jī)真空腔體冷板Chiller普泰克 晶圓制造領(lǐng)域控溫Chiller
產(chǎn)品型號：
更新時(shí)間：2026-07-16
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
訪 問 量 ：64
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產(chǎn)品分類
普泰克 晶圓制造領(lǐng)域控溫Chiller核心優(yōu)勢介紹
在晶圓制造的光刻、刻蝕、薄膜沉積（CVD/PVD）、CMP研磨及離子注入等核心制程中，溫度控制的精度與穩(wěn)定性直接影響晶圓表面的化學(xué)反應(yīng)速率、薄膜生長質(zhì)量與關(guān)鍵尺寸（CD）的控制精度。普泰克聚焦半導(dǎo)體前道全流程溫控需求，其Chiller（高精度冷熱循環(huán)器/換熱溫控單元）在以下方面形成了較為突出的核心優(yōu)勢。
一、寬制程覆蓋，適配半導(dǎo)體前道全流程
普泰克Chiller產(chǎn)品線覆蓋晶圓制造前道八大核心制程設(shè)備，可適配以下典型場景：
光刻工藝：光刻膠涂布站恒溫供應(yīng)、旋涂卡盤冷卻、顯影液溫度管理
刻蝕工藝：干法/濕法刻蝕腔體及蝕刻液恒溫控制
薄膜沉積（CVD/PVD）：反應(yīng)腔室及晶圓載臺精準(zhǔn)溫控
CMP研磨：研磨液恒溫供應(yīng)與分散系統(tǒng)溫度管理
二、控溫精度與一致性表現(xiàn)較為突出
依托高級動態(tài)控制算法與高精度溫度傳感技術(shù)，系統(tǒng)致力于確保每次控制結(jié)果的一致性，對提升產(chǎn)品生產(chǎn)的穩(wěn)定性有一定幫助。部分PTS/PHE系列在特定工況下可實(shí)現(xiàn)較為精準(zhǔn)的溫度控制，有助于減少因熱漂移導(dǎo)致的工藝偏差。采用自適應(yīng)PID控制算法，可根據(jù)不同環(huán)境和負(fù)載自動優(yōu)化調(diào)節(jié)，無需頻繁手動調(diào)整參數(shù)。
三、全密閉循環(huán)設(shè)計(jì)，適配潔凈環(huán)境
采用全密閉式系統(tǒng)設(shè)計(jì)，循環(huán)管路與外界空氣隔離，僅保留必要的呼吸孔。該設(shè)計(jì)有助于：
減少導(dǎo)熱介質(zhì)在高溫下的氧化及油霧產(chǎn)生，延長介質(zhì)使用壽命
避免低溫工況下吸收空氣中水分，減少結(jié)霜結(jié)冰現(xiàn)象
降低介質(zhì)污染風(fēng)險(xiǎn)，適配晶圓制造對潔凈度的要求
四、快速響應(yīng)與寬溫域定制能力
參與循環(huán)的導(dǎo)熱介質(zhì)容積相對較小，加熱和制冷響應(yīng)速度較快，熱慣性小，適用于晶圓制造中可能存在的溫度調(diào)節(jié)需求。支持較寬的溫度區(qū)間定制，部分解決方案可覆蓋-80℃至+300℃，并可依據(jù)具體工藝需求進(jìn)行非標(biāo)擴(kuò)展。采用超高溫降溫技術(shù)，可在較高溫度工況下直接通入冷卻水實(shí)現(xiàn)降溫。
五、變頻技術(shù)與運(yùn)行能效
采用變頻技術(shù)，通過系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和自主控制算法，可根據(jù)實(shí)際熱負(fù)荷需求調(diào)節(jié)壓縮機(jī)輸出頻率，在滿足制程溫度要求的同時(shí)兼顧運(yùn)行能效。系統(tǒng)配備7英寸彩色觸摸屏，支持溫度曲線實(shí)時(shí)顯示與記錄。
六、普泰克 晶圓制造領(lǐng)域控溫Chiller智能監(jiān)控與安全防護(hù)
設(shè)備支持溫度、流量、壓力等多參數(shù)同時(shí)監(jiān)控與控制，具備運(yùn)行狀態(tài)實(shí)時(shí)顯示與故障自動診斷功能。系統(tǒng)集成了多項(xiàng)報(bào)警保護(hù)機(jī)制（超溫報(bào)警、泵故障保護(hù)、壓力異常等），有助于提升設(shè)備運(yùn)行過程中的安全防護(hù)水平。
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